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3 Results:SS:기판온도 0.78 sec.
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기판온도와 후열처리가 PLD로 제조된 PZT 박막의 특성에 미치는 영향 : The Effects of Substrate Temperature and Post-annealing on the Characteristics of P2T Thin-films prepared by PLD
기판온도와 후열처리가 PLD로 제조된 PZT 박막의 특성에 미치는 영향 : The Effects of Substrate Temperature and Post-annealing on the Characteristics of P2T Thin-films prepared by PLD
신현용 | 남서울대학교 공학연구센터 | 2002
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동시진공증발법을 이용한 Cu(In,Ga)Se₂박막 제작에 관한 연구
동시진공증발법을 이용한 Cu(In,Ga)Se₂박막 제작에 관한 연구
박정철 | 한국정보통신학회 | 2012
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조성비 변화에 의한 CIGS박막 특성에 관한 연구
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추순남 | 한국정보통신학회 | 2012
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