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HNO₃: H₂O₂ : HF 세척법을 이용한 실리콘 직접 접합 기술에 관한 특성 연구
HNO₃: H₂O₂ : HF 세척법을 이용한 실리콘 직접 접합 기술에 관한 특성 연구 / 주철민 ; 이정...
内容资讯
HNO₃: H₂O₂ : HF 세척법을 이용한 실리콘 직접 접합 기술에 관한 특성 연구
자료유형  
 기사
ISSN  
12263869
청구기호  
041 고29공 v.37
서명/저자  
HNO₃: H₂O₂ : HF 세척법을 이용한 실리콘 직접 접합 기술에 관한 특성 연구 / 주철민 ; 이정훈 ; 최우범 ; 이종석 ; 성만영
발행사항  
서울 : 고려대학교 부설 공학기술연구소, 1999.
형태사항  
pp. 71-75
키워드  
HF 세척법 실리콘 접합기술
기타저자  
주철민
기타저자  
이정훈
기타저자  
최우범
기타저자  
이종석
기타저자  
성만영
기본자료저록  
공학논문집 : 통권 제37호 2000, 03
모체레코드  
모체정보확인
Control Number  
joongbu:83986
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