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Non-stoichiometric AlOx Films Prepared by Chemical Vapor Deposition Using Dimethylaluminum Isopropoxide as Single Precursor and Their Non-volatile Memory Characteristics
Non-stoichiometric AlOx Films Prepared by Chemical Vapor Deposition Using Dimethylaluminum Isopropoxide as Single Precursor and Their Non-volatile Memory Characteristics
상세정보
- 자료유형
- 기사
- ISSN
- 02532964
- 청구기호
- 540 화92b v.33-7
- 서명/저자
- Non-stoichiometric AlO<SUB>x</SUB> Films Prepared by Chemical Vapor Deposition Using Dimethylaluminum Isopropoxide as Single Precursor and Their Non-volatile Memory Characteristics / 이선숙 ; 이은석 ; 김석환 ; 이병국 ; 정석정 ; 황진하 ; 김창균 ; 정택모 ; 안기석 공 저
- 발행사항
- 서울 : 대한화학회, 2012.
- 형태사항
- pp. 2207-2212
- 기타저자
- 이선숙
- 기타저자
- 이은석
- 기타저자
- 김석환
- 기타저자
- 이병국
- 기타저자
- 정석정
- 기타저자
- 황진하
- 기타저자
- 김창균
- 기타저자
- 정택모
- 기타저자
- 안기석
- 모체레코드
- 모체정보확인
- Control Number
- joongbu:405596
MARC
008130218s2012 ko a a kor■022 ▼a02532964
■090 ▼a540▼b화92b▼cv.33-7
■245 ▼aNon-stoichiometric AlOSUBx/SUB Films Prepared by Chemical Vapor Deposition Using Dimethylaluminum Isopropoxide as Single Precursor and Their Non-volatile Memory Characteristics▼d이선숙▼e이은석▼e김석환▼e이병국▼e정석정▼e황진하▼e김창균▼e정택모▼e안기석 공 저
■260 ▼a서울▼b대한화학회▼c2012.
■300 ▼app. 2207-2212
■7001 ▼a이선숙
■7001 ▼a이은석
■7001 ▼a김석환
■7001 ▼a이병국
■7001 ▼a정석정
■7001 ▼a황진하
■7001 ▼a김창균
■7001 ▼a정택모
■7001 ▼a안기석
■773 ▼tBulletin of the Korean chemical society▼gVOL33 NO7▼d2012, 07
■SIS ▼aS104821▼b70612▼h2▼s2▼fA
