서브메뉴
검색
Non-stoichiometric AlOx Films Prepared by Chemical Vapor Deposition Using Dimethylaluminum Isopropoxide as Single Precursor and Their Non-volatile Memory Characteristics
Non-stoichiometric AlOx Films Prepared by Chemical Vapor Deposition Using Dimethylaluminum Isopropoxide as Single Precursor and Their Non-volatile Memory Characteristics
- 자료유형
- 기사
- ISSN
- 02532964
- 청구기호
- 540 화92b v.33-7
- 서명/저자
- Non-stoichiometric AlO<SUB>x</SUB> Films Prepared by Chemical Vapor Deposition Using Dimethylaluminum Isopropoxide as Single Precursor and Their Non-volatile Memory Characteristics / 이선숙 ; 이은석 ; 김석환 ; 이병국 ; 정석정 ; 황진하 ; 김창균 ; 정택모 ; 안기석 공 저
- 발행사항
- 서울 : 대한화학회, 2012.
- 형태사항
- pp. 2207-2212
- 기타저자
- 이선숙
- 기타저자
- 이은석
- 기타저자
- 김석환
- 기타저자
- 이병국
- 기타저자
- 정석정
- 기타저자
- 황진하
- 기타저자
- 김창균
- 기타저자
- 정택모
- 기타저자
- 안기석
- 모체레코드
- 모체정보확인
- Control Number
- joongbu:405596
detalle info
- Reserva
- 캠퍼스간 도서대출
- 서가에 없는 책 신고
- Mi carpeta
