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고주파 유도 단일패스 선상가열 유기 후판 성형 기술
고주파 유도 단일패스 선상가열 유기 후판 성형 기술
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■090 ▼a620.11232▼b소54ㅅ▼cv.20-6
■245 ▼a고주파 유도 단일패스 선상가열 유기 후판 성형 기술▼d이광석▼e엄득하▼e김창원▼e변상윤▼e손동환▼e공경열▼e김병민▼e이정환 공저
■260 ▼a서울▼b한국소성가공학회▼c2011.
■300 ▼app. 439-449
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■773 ▼t소성가공 = Transactions of Materials Proceeding▼g2011년 6호 (제20권 제6호)(통권128호)▼d2011, 09
■SIS ▼aS097708▼b70171▼h2▼s2▼fA
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