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기판온도와 후열처리가 PLD로 제조된 PZT 박막의 특성에 미치는 영향 : The Effects of Substrate Temperature and Post-annealing on the Characteristics of P2T Thin-films prepared by PLD
기판온도와 후열처리가 PLD로 제조된 PZT 박막의 특성에 미치는 영향 : The Effects of Substrat...
기판온도와 후열처리가 PLD로 제조된 PZT 박막의 특성에 미치는 영향 : The Effects of Substrate Temperature and Post-annealing on the Characteristics of P2T Thin-films prepared by PLD
자료유형  
 기사
청구기호  
041 남54고 v.3
서명/저자  
기판온도와 후열처리가 PLD로 제조된 PZT 박막의 특성에 미치는 영향 : The Effects of Substrate Temperature and Post-annealing on the Characteristics of P2T Thin-films prepared by PLD / 신현용 저
발행사항  
충남 : 남서울대학교 공학연구센터, 2002.
형태사항  
pp. pp.89-100
일반주제명  
기판온도, 후열처리, PZT 박막
기타저자  
신현용
기본자료저록  
공학연구 : 제3집 2002, 03
모체레코드  
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Control Number  
joongbu:360298
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