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기판온도와 후열처리가 PLD로 제조된 PZT 박막의 특성에 미치는 영향 : The Effects of Substrate Temperature and Post-annealing on the Characteristics of P2T Thin-films prepared by PLD
기판온도와 후열처리가 PLD로 제조된 PZT 박막의 특성에 미치는 영향 : The Effects of Substrate Temperature and Post-annealing on the Characteristics of P2T Thin-films prepared by PLD
- 자료유형
- 기사
- 청구기호
- 041 남54고 v.3
- 서명/저자
- 기판온도와 후열처리가 PLD로 제조된 PZT 박막의 특성에 미치는 영향 : The Effects of Substrate Temperature and Post-annealing on the Characteristics of P2T Thin-films prepared by PLD / 신현용 저
- 발행사항
- 충남 : 남서울대학교 공학연구센터, 2002.
- 형태사항
- pp. pp.89-100
- 일반주제명
- 기판온도, 후열처리, PZT 박막
- 기타저자
- 신현용
- 기본자료저록
- 공학연구 : 제3집 2002, 03
- 모체레코드
- 모체정보확인
- Control Number
- joongbu:360298